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1月15日，星期六。

合痩市。

乘坐高鐵的衛明，來到了這座城市。

為此他特意跟樊姐請了兩天假，提前處理了三十多名結石病人，合計騰出了三天時間，就為了解決掉一個問題。

人才！

高端光刻機的研發人才。

而且衛明已經有了明確的招募目標，他認為的最合適最優秀的人才，就在合瘦市這邊。

此人名叫蒲偉才。

衛明是在網上查找相關信息的過程中，看到了多條關于此人的新聞。

也注意到此人帶領的研發團隊，取得的跟光刻機相關的多項研究成果，明白了此人的牛叉之處。

因為這些天衛明也在大力學習一些跟光刻機相關的知識，了解到了euv光刻機的幾大核心技術。

一個，組裝。

光刻機最重要的技術之一是組裝，就是把所有的元件組裝起來，然后使分辨率達到最高，同時套刻精度達到最佳。

比如機器內部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準的測溫傳感器。一臺光刻機中，包含十幾個分系統，幾萬個機械件，數百個的傳感器，每一個都要穩定。

二，控制。

光刻機是制造業內對精密性要求最高的產品。光刻的原理就像在米粒大小的面積上，雕刻納米級大小的文字，對于誤差的要求可想而知。

比如光刻機里有2個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作臺由靜到動，加速度跟導彈發射差不多。

三，光源。

制造euv需要極高的能量。euv能被空氣吸收，所以光刻環節必須耗電保持真空環境。更夸張的是，euv還能被透鏡吸收，所以只能用十幾次面透鏡，通過不斷反射將光源集中。

每反射1次，euv的能量就會損失3成。十幾次反射后，到達晶圓的光線理論上只剩下2%。從能連趕上看，寒國某半導體企業曾經說過，極紫外光euv的能源轉換效率只有0.02%左右。

四、鏡頭。

光刻機的中心鏡頭對于鏡頭要求較高，位于光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成，需要高純度透光以及高拋光。

目前，符合光刻機要求的鏡片還無法靠機器制造，先進光刻機鏡頭全部由手工打磨而成，能夠達到這一標準的公司并不多，全世界范圍內也就一兩家，全部是西方老牌公司。

而這四大類的核心技術中。

衛明了解到這位牛人蒲偉才跟他的技術團隊，在短短的十年時間里，一共攻克了兩項。

分別是雙工臺技術與光源技術。

他帶領團隊研發出的高精密雙工臺，控制精度也達到了2納米，跟國外最先進水平，達到了同等先進的程度，抹平了技術差距，可以說是打成了平手。

而在光源技術方面，蒲偉才也是只用了短短幾年時間，利用國內在激光技術領域的領先地位，以及材料方面的領先優勢，開發出的euv光源系統，最終能源利用率達到了5%。

較之于艾思邁euv光刻機的2%，能源利用率提升了一倍還多！

這意味著光刻機在使用的過程中，能節省一半多的電，減少產生大量的熱量，系統的穩定性能提高不少。

也就是說，在euv光刻機領域，蒲偉才這位牛人，以及他帶領的技術團隊，四大核心技術中，他們攻破了兩個。